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Book/Report | FZJ-2017-04195 |
1969
Kernforschungsanlage Jülich, Verlag
Jülich
Please use a persistent id in citations: http://hdl.handle.net/2128/14720
Report No.: Juel-0579-FN
Abstract: Es wurde eine Anlage aufgebaut, in der Proben bei 4,5°K mit hohen Elektronendosen bestrahlt werden können. Die Kühlung der Proben erfolgt durch direkten Kontakt mit flüssigem Helium. Der Kühlkreislauf wird durch einen He-Refrigerator mit einer Kälteleistung von 160 W bei 4,5°K aufrechterhalten. Zur homogenen Bestrahlung der Proben bei hohem Ausnutzungsgrad des gesamten Strahlstroms wurde die Elektronenquelle des 3 MeV van-de-Graaff-Beschleunigers abgeändert und ein Strahlführungssystem mit Quadrupollinsen zur Anpassung des Strahlflecks an die jeweilige Probenform entwickelt. Damit lassen sich Strahlstromdichten von100 A/cm$^{2}$ mit einer Homogenität $\geq$ 10 % über 2 cm$^{2}$ Probenfläche erreichen. Bei Tieftemperaturbestrahlungen mit dieser Anlage wurden Defektkonzentrationen von 2,7 · 10$^{-3}$bei Platin und 2,4 · 10$^{-3}$ bei Kupfer erzielt. Der Einfluß der Defektkonzentration auf den Defektaufbau wurde untersucht.
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