Book/Report FZJ-2017-04195

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Aufbau einer Anlage zur Bestrahlung mit Elektronen bei tiefen Temperaturen



1969
Kernforschungsanlage Jülich, Verlag Jülich

Jülich : Kernforschungsanlage Jülich, Verlag, Berichte der Kernforschungsanlage Jülich 579, 53 p., [22] leaves of plates ()

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Report No.: Juel-0579-FN

Abstract: Es wurde eine Anlage aufgebaut, in der Proben bei 4,5°K mit hohen Elektronendosen bestrahlt werden können. Die Kühlung der Proben erfolgt durch direkten Kontakt mit flüssigem Helium. Der Kühlkreislauf wird durch einen He-Refrigerator mit einer Kälteleistung von 160 W bei 4,5°K aufrechterhalten. Zur homogenen Bestrahlung der Proben bei hohem Ausnutzungsgrad des gesamten Strahlstroms wurde die Elektronenquelle des 3 MeV van-de-Graaff-Beschleunigers abgeändert und ein Strahlführungssystem mit Quadrupollinsen zur Anpassung des Strahlflecks an die jeweilige Probenform entwickelt. Damit lassen sich Strahlstromdichten von100 A/cm$^{2}$ mit einer Homogenität $\geq$ 10 % über 2 cm$^{2}$ Probenfläche erreichen. Bei Tieftemperaturbestrahlungen mit dieser Anlage wurden Defektkonzentrationen von 2,7 · 10$^{-3}$bei Platin und 2,4 · 10$^{-3}$ bei Kupfer erzielt. Der Einfluß der Defektkonzentration auf den Defektaufbau wurde untersucht.


Contributing Institute(s):
  1. Publikationen vor 2000 (PRE-2000)
Research Program(s):
  1. 899 - ohne Topic (POF3-899) (POF3-899)

Database coverage:
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 Record created 2017-06-21, last modified 2021-01-29